，各类显卡等等也将会采用十二纳米工艺制造。

同时还有一大堆已经设计生产的芯片用的是第一代十四纳米工艺。

至于十八纳米工艺的一些产品，则是已经陆续停产，该工艺也是属于过度工艺，性价比太低了。

未来好几年内，智云集团的各类芯片，不管自用还是外销，都会采用十四纳米工艺为主，当然，这个十四纳米工艺可能会有很多种，包括第一代十四纳米工艺，第二代十四纳米工艺（十二纳米），然后还有其他的一些变种工艺，以满足不同类型的芯片的需求。

至于更先进，但是性价比太低的十纳米工艺，注定只是个过渡工艺。

智云集团的一些先进芯片，如ai训练芯片，手机soc芯片，机载算力卡这些对工艺要求高，对算力要求高的芯片，则是都把目光面瞄向了更好的等效七纳米工艺……虽然那玩意的成本会更高，但是带来的性能提升也足够大，所以咬咬牙也能用。

这就是没有euv光刻机的尴尬了。

如果有euv光刻机的话，等效七纳米芯片的成本就能拉下来，同样的，等效十纳米工艺其实用euv光刻机来生产也更方便，成本更低。

可惜，智云集团一时半会还得不到euv光刻机。

但是庆幸的是，台积电，英特尔，四星等半导体厂商也无法得到euv光刻机……荷兰的asml在今年十一月份的时候，就已经正式对外宣布：受到多个子系统研发进度缓慢的影响，预定明年交货的量产型euv光刻机，也就是可以用来进行大规模量产芯片的euv光刻机将会进一步推迟。

他们给出的初步计划是在18年推出量产型的euv光刻机。

但实际上，这个时间表那只是一切顺利的情况下。

而实际上不可能顺利的，智云集团那边睁着大眼睛盯着asml那边呢……但凡有点什么进展，立马各种车祸就来了，供应链那边就会出现问题了。

虽然没有任何证据，也没有任何公开报道，但是该知道的人都知道是智云那群人干的。

所以asml那边其实早早就摆烂了，euv项目组只是维持在一个低水平推进的状态……反正卖浸润式duv光刻机也很赚钱。

至于euv光刻机，拖着呗。

至于什么时候大规模启动euv项目，进入量产型号的投产模式，那要等那些大财团们打完架再说。

不管是分出胜负也好，达成协议也罢，总之在出现结果之前他们asml是不会参与其中的。

不然的话，就会出现大

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