式光刻机的话，大概还需要多久，多少资金？”

王道林道：“我们公司现在的主要项目就是这个duv干式光刻机，国内的光源，工作台，透镜这些其实问题已经不大，已经有了相应供应商，只是技术上还有一些差距，此外还有一些零部件存在国产化问题！”

“这部分零部件存在的国产化问题，再有个几亿美金投下去估计也就差不多了。”

“资金到位的话，最多两年时间我们就能够把完全国产化的duv干式光刻机给做出来。”

“但是在生产效率肯定是不如国外先进产品的，这一点，希望集团方面有心理准备！”

徐申学道：“资金问题你不用担心，多了不敢说，但是十来亿美金什么的小意思！”

“只要把东西做出来，你也不用担心卖不出去，我们集团有芯片工厂，这个光刻机搞不来先进制程也可以用来做低端制程的产品！”

听了王道林的话，又看了看国内目前基础技术的一些资料，徐申学觉得情况比自己预估的稍微乐观一些。

duv干式光刻机，这方面国内的技术其实还成，大方向已经搞得七七八八了，剩下的就是一些水墨功夫，哪怕没有自己参与，估计四五年后也能够搞出来。

而自己要做的就是，利用自己的资金以及科研系统，加速这一进程。

当即道：“集团投资的一些行业关联的子系统的公司目前也正在推动相关技术，你们这边也要努力，我期待你们的好消息！”

徐申学可从不指望国内现有的这些厂家，做事太墨迹了……

反正国内的基础技术也到位了，那么就自己砸钱，然后再加上科研系统辅助，争取尽快把duv干式光刻机给弄出来……

duv干式光刻机，可以用来生产九十纳米以及六十五纳米工艺这两个工艺节点的芯片。在最近几年还是有一些市场的，早点弄出来好歹喝点汤水回点本钱！

如果晚几年的话，连汤水都没得喝了。

徐申学仔细翻看了技术资料后，又道：“还有duv浸润式光刻机，这东西更重要，技术进度也不能落下！”

duv干式光刻机，注定是落后技术了，而duv浸润式光刻机虽然在几年后也会落后，但是好歹十几年后还能用啊，继续推进技术的话，未来是能够达到等效七纳米工艺水平的。

因此徐申学对这玩意更关注。

王道林这个时候倒是面露为难：“我们现在也在推进duv浸润式光刻机的开发，但是这个难度比预估的还要更大！”

徐申学道：

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