，虽然对比国外同类产品有一些差距，但是通过压低设备采购成本，耗材成本以及尤其维护成本，也足以让芯片工厂的整合成本做到和国外进口产品相当的程度！”

“按照我们的规划，大概在明年，我们就能够在六十五纳米工艺生产线上，完成百分之八十的关键设备以及耗材的自主可控！”

“三年内，预计就能够实现六十五纳米工艺的完全自主可控！”

“同时我们还在展开duv浸润式光刻机为核心的四十五纳米以及以下工艺的生产线的研发，在duv浸润式光刻机上已经获得了一定的技术突破，各大的关键核心子系统已经解决了基本的技术难题，目前正处于系统整合，细节问题的处理上，我的技术团队向我承诺过，最初明年年中，就能够拿出来首台样机进行测试！”

“配套的蚀刻机，离子注入机等诸多核心设备的研发有快有慢，但是大概也能够在两到三年内完成技术积累，逐步完善，乐观估计在15年左右，我们就能够在部分进口设备以及耗材的支持下，初步建立一条四十五纳米生产线，预估在16年左右做到自主可控！”

“而通过这一套设备的继续往下延伸，我们是能够满足更先进的二十八纳米工艺，乃至二十二纳米工艺，甚至十四纳米工艺的自主可控的！”

“毕竟二十八纳米工艺以下，基本都算是等效工艺，对设备的要求虽然更高，但是本质上没有太大的变化。”

“如今我的芯片工厂正在展开的二十二纳米3d晶体管的工艺研究，也是基于现有的设备生产线而进行的！”

“而在更先进的euv光刻机，也就是十四纳米工艺以下的生产线研究里，我们目前还处于技术论证阶段，核心的光源问题已经有了一些技术成果，也从外界获得了一些技术资料，但是想要在国内进行复刻难度相当大，这方面，我们还需要更多的支持，尤其是基础的材料和精密设备领域上的支持！”

“我的技术团队告诉我，如果一切顺利的话，各方面资源充足的话，他们有信心能够在八年到十年内解决问题。”

“根据这个时间表，再参考国外的euv光刻机目前的生产和研发也陷入了一定的停滞落后，比预期计划至少延后了三年，那么我们在追赶起来固然有压力，但是还是有希望的！”

国外的euv光刻机项目为什么会延后，自然是因为智云集团从中阻挠。

直到如今，智云集团依旧没有放弃获得euv光刻机的打算……徐申学不管什么制裁或者什么协议，他只知道……其他公司都能用这个euv光

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